等离子割枪拆卸,等离子割枪开关装配示意图

摘要：证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司(688012)新获得一项发明专利授权，专利名为“零部件、等离子体反应装置及零部件加工方法”，专利申请号为CN202010361663.1,授权日为2024年4月12日。专利摘要：本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种零部件、等离子体反应装置及零后面会介绍。 ...

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司(688012)新获得一项发明专利授权，专利名为“零部件、等离子体反应装置及零部件加工方法”，专利申请号为CN202010361663.1,授权日为2024年4月12日。专利摘要：本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种零部件、等离子体反应装置及零后面会介绍。

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金融界2024年4月11日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社取得一项名为“等离子体沉积方法和等离子体沉积设备“授权公告号CN110880447B,申请日期为2019年6月。专利摘要显示，提供了一种等离子体沉积方法和等离子体沉积设备，在所述等离子体沉积方法中，将基底装载后面会介绍。

jin rong jie 2 0 2 4 nian 4 yue 1 1 ri xiao xi ， ju guo jia zhi shi chan quan ju gong gao ， san xing dian zi zhu shi hui she qu de yi xiang ming wei “ deng li zi ti chen ji fang fa he deng li zi ti chen ji she bei “ shou quan gong gao hao C N 1 1 0 8 8 0 4 4 7 B , shen qing ri qi wei 2 0 1 9 nian 6 yue 。 zhuan li zhai yao xian shi ， ti gong le yi zhong deng li zi ti chen ji fang fa he deng li zi ti chen ji she bei ， zai suo shu deng li zi ti chen ji fang fa zhong ， jiang ji di zhuang zai hou mian hui jie shao 。

供应等离子体反应气体。导光通道包括：入射部分，接收入射光；等离子体反应部分，在第一方向上从入射部分延伸，以由于入射光与等离子体反应气体之间的相互作用而产生EUV光；以及发射部分，在第一方向上从等离子体反应部分延伸，以在第一方向上发射EUV光。气体供应通道可以在气体还有呢？

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司(688012)新获得一项发明专利授权，专利名为“晶圆温度控制器及系统、方法和等离子体处理装置”，专利申请号为CN201911377075.0,授权日为2024年4月9日。专利摘要：本发明适用于半导体技术领域，公开了晶圆温度控制器、晶圆温度控制系等我继续说。

金融界2024年4月8日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社取得一项名为“形成石墨烯的方法“授权公告号CN110970289B,申请日期为2019年9月。专利摘要显示，提供一种形成石墨烯的方法。形成石墨烯的方法包括：当对放置在反应室中的基板施加偏压时用等离子体处理基板等会说。

金融界2024年4月5日消息，据国家知识产权局公告，沪士电子股份有限公司申请一项名为“一种等离子除胶监控速率片、制作及使用方法“公开号CN117835555A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示，本发明公开了一种等离子除胶监控速率片、制作及使用方法，属于PCB板技术领域。..

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证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司(688012)新获得一项发明专利授权，专利名为“等离子体处理装置”，专利申请号为CN202010877421.8,授权日为2024年4月5日。专利摘要：本发明公开了一种等离子体处理装置，包括：反应腔；绝缘窗口，位于反应腔的顶部；线圈，位于绝缘窗口上，线神经网络。

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司(688012)新获得一项发明专利授权，专利名为“电容式薄膜真空计、等离子体反应装置和膜层制备方法”，专利申请号为CN202010740454.8,授权日为2024年4月5日。专利摘要：本发明涉及半导体加工技术领域，具体公开了一种电容式薄膜真空计等会说。

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司(688012)新获得一项发明专利授权，专利名为“耐腐蚀涂层的镀膜方法及等离子体刻蚀零部件和反应装置”，专利申请号为CN202010548393.5,授权日为2024年4月5日。专利摘要：本发明涉及半导体加工技术领域，具体公开了一种耐腐蚀涂层的镀后面会介绍。

证券之星消息，根据企查查数据显示西山科技(688576)新获得一项实用新型专利授权，专利名为“等离子手术电极”，专利申请号为CN202321642254.4,授权日为2024年4月5日。专利摘要：本申请涉及一种等离子手术电极，一种等离子手术电极包括：手柄，其一端设有注液接口及吸液接口，吸液等我继续说。

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